【終了】中国意匠セミナー 『これからの中国意匠出願 Part II』

概要

2021年6月に第四次改正専利法が施行されて以来、中国の意匠制度は大きな変化を遂げました。
本セミナーでは、2024年1月20日より施行されている改正法対応の実施細則と審査指南から、意匠に関連する事項（部分意匠・画像意匠・ハーグ協定等）をピックアップして、弊所所属の中国弁理士が解説いたします。
また、それらが実務上どのように適用されるか、中国国家知識産権局専利文献館主催の公益講座に取り上げた具体例を示しながら出願手法のポイントもご紹介します。
中国弁理士に直接質問できるＱ＆Ａコーナーもあります。中国における意匠出願戦略に役立つ内容となっておりますので、是非ご参加ください。

講師

特許本部　中国弁理士　梁 熙艶（リョウ キエン）

意匠商標本部　弁理士　山﨑 理恵

司会　意匠商標本部　弁理士　上野 友里

【終了】中国特許セミナー『現行第四次改正専利法に伴う2023年版審査指南改正』

概要

・コンピュータープログラム関連発明に対する専利法による保護の変遷
・2023年版審査指南におけるコンピュータープログラム関連発明
・ＡＩ関連発明の審査基準（第二部分第九章第６節）

講師

国際特許本部　中国弁理士　梁 熙艶（リョウ キエン）

【終了】【動画配信】上海オフィス設立20周年記念セミナー「中国特許審査の近年の動向」

概要

本年、オンダ国際特許事務所の上海オフィスは設立から20年を迎えました。これもひとえに皆さまのご支援の賜物と、心より厚く御礼申し上げます。日頃のご愛顧に感謝の意を込め、「中国特許審査の近年の動向」と題した、動画セミナーを配信いたします。

講師

オンダ国際特許事務所　中国弁理士　関英澤

【終了】中国知財セミナー「中国・日本の特許実務における相違点」

開催日

名古屋：2016年3月11日(金)

東京：2016年3月18日(金)

大阪：2016年3月25日(金)

概要

中国の特許制度は日本の特許制度と異なる点が多く、特に実務上、日本では当たり前な考え方が中国で通用しない例がたくさんあります。
今回のセミナーでは、中国・日本の特許実務を比較しながら、補正の制限、実用新案制度の利用など、実例を通じて中国特許の実務上で注意すべき事項について説明いたします。

講師

中国弁理士／国際事業部 中国知財支援室 室長 関英澤

セミナー終了後のアンケート

【終了】中国特許出願の補正制限について

開催日

名古屋：2013年10月24日(木)

大阪：2013年11月1日(金)

東京：2013年11月8日(金)

概要

本セミナーでは、実例を通じて特許出願における補正制限の現状、および最近の動向をご紹介し、外国人出願人が補正を行う際に注意すべき事項についてわかりやすく解説いたします。

講師

中国弁理士　関 英澤（カン エイタク）

セミナー終了後のアンケート

【終了】中国進出事業者様向け 緊急 商標セミナー

開催日

：2011年3月24日(木)

概要

中国における商標をめぐる最近のトラブル事例から学ぶ教訓
自社のロゴが第三者により商標登録されてしまった、模倣品が中国で製造され中国国外にも輸出されている、といったトラブルへの対処方法の例を示し、予防策となる効果的な商標登録の取得方法と、ビジネス上のメリットについて解説。

講師

上海オンダ商標代理有限公司　代表：　夏 宇 （シャ ウ）