外国知財情報 | 弁理士法人オンダ国際特許事務所 - Part 18

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2011.03.01

商標

キューバを指定するマドプロ出願のオフィシャルフィー値下げについてのお知らせ

キューバ

2011.01.28

商標

インド商標局の新規商標出願に関するオフィシャルフィー値上げについてのお知らせ

インド

2011.01.28

商標

中国　商標審査期間を2012年までに10ヶ月に短縮

中国

2011.01.28

特許・実用新案

EPCの法改正（改正規則141，新規則70ｂ）

欧州圏

2011.01.05

商標

台湾商標出願に係る政府料金の改定のおしらせ

台湾

2011.01.01

特許・実用新案

米国における外国出願経過禁反言（Foreign Prosecution History Estoppel）について

米国

2011.01.01

特許・実用新案

米国特許クレームのプリアンブル

米国

2010.10.26

商標

英国の商標異議申立手続における重要な変更

英国

2010.10.19

商標

カザフスタンがマドリッドプロトコルに加盟します

カザフスタン

2010.08.19

商標

イスラエルがマドリッドプロトコルに加盟します

イスラエル