外国知財情報 | 弁理士法人オンダ国際特許事務所 - Part 17

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2011.09.20

特許・実用新案

米国特許法改正（2011年9月16日発効）

米国

2011.06.24

特許・実用新案

アメリカ特許速報

米国

2011.06.10

特許・実用新案

アメリカ特許規則改正（2011年5月17日発効）

米国

2011.05.01

特許・実用新案

二行為者クレーム

米国

2011.03.11

商標

バーレーンへの商標出願の際に領事認証済み委任状が必要になりました

バーレーン

2011.03.10

特許・実用新案

マレーシア特許規則改正（2011年2月15日発効）

マレーシア

2011.03.01

商標

キューバを指定するマドプロ出願のオフィシャルフィー値下げについてのお知らせ

キューバ

2011.01.28

商標

インド商標局の新規商標出願に関するオフィシャルフィー値上げについてのお知らせ

インド

2011.01.28

商標

中国　商標審査期間を2012年までに10ヶ月に短縮

中国

2011.01.28

特許・実用新案

EPCの法改正（改正規則141，新規則70ｂ）

欧州圏